TESCAN 大容量工作流程

結合 FIB切削和雷射燒蝕 進行深入分析

借助Plasma FIB-SEM(PFIB) 和雷射燒蝕(Laser)的協同作用,高效檢測分析毫米級樣品

TESCAN大體積切削工作流程的主要優勢

無與倫比的分析能力

06

利用TESCAN經過驗證的Plasma FIB-SEM(PFIB)和多功能微加工雷射燒蝕(Laser)的強大功能,實現各種微結構診斷故障分析的可靠技術。

毫米級立體樣品製備

10

高效製備大體積樣品切削或深層橫截面,快速且無Ga+植入損傷。

深入瞭解具有挑戰性的樣品

21d

借助我們的雷射燒蝕(Laser)和Plsama FIB (PFIB)的解決方案可以加速材料去除率(切削效率),即使在非導電堅硬材料中也能快速輕鬆地將深埋的 ROI (感興趣的區域)製備完成。

無人工鑿痕

結果

01

使用卓越的表面拋光技術獲得原貌橫截面以進行超高分辨率成像,從而獲得整個橫截面的最精細的細節。

優化

吞吐量

元件 12 – 2

利用專為大體積材料切削去除而設計的技術,最大限度地減少取樣準備時間和減少每個樣品製備的時間成本。

使用者友善介面和工作流程

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透過TESCAN直觀易學易懂的操作軟體提高生產率,實現Plasma FIB-SEM(PFIB) 和雷射燒蝕(Laser)的完美整合工作流程。

瞭解TESCAN大體積切削工作流程。

利用TESCAN大體積切削工作流程加速毫米級半導體故障分析

4mm 切割 7 x Ø500 μm Solder Ball(錫球),通過雷射燒蝕(Laser)在 20 分鐘內完成。

充分應用的綜合失效分析

高效的橫截面封裝樣品製備(3D IC、TSV、Solder Ball、倒裝覆晶晶圓等),用於深入的故障分析。

微米級樣品切口,包含錫球(Solder Bump)、焊盤(Pad)和軟板(PCB),用於高解析度Micro-CT分析。

製備樣品為了接下來的高級應用

製備塊狀樣品以進行高解析度Micro-CT 分析、原子探針(ATP)斷層掃描以及應力拉伸或壓縮測試。

通過雷射燒蝕(Laser)製備的0.5mm IC樣品,並用CO2 snow jet(雪花噴射)技術清潔樣品表面。

適用於自由幾何形狀的樣品

實現微米級精度、自由幾何形狀的樣品製備:平面 TEM (plane view)、H-bars FIB橫截面分析或複雜的3D形狀樣品分析。

問題?
對線上演示感興趣?

我們的全球團隊已經準備好隨時可提供有關TESCAN FIB-SEM對於半導體和IC封裝故障分析解決方案。